中国首台光刻机成功了吗

成功了。2022年2月7日，上海微电子举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式，这标志着中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户。

先进封装光刻机是上海微电子目前的主打产品，全球市场占有率连续多年排名第一。此次发运的产品是新一代的先进封装光刻机，主要应用于高端数据中心高性能计算（HPC）和高端AI芯片等高密度异构集成领域，可满足2.5D/3D超大芯片尺寸的先封装应用需求，代表了行业同类产品的最高水平。

哈工大7纳米光刻机是真的吗

1. 是真的。
2. 哈工大7纳米光刻机是真实存在的，它是哈尔滨工业大学研发的一种先进的光刻技术设备。
光刻技术是微电子制造中的一项关键技术，可以实现微米级别的精确图案转移。
7纳米光刻机是指其可以实现7纳米级别的图案转移，这是目前最先进的光刻技术之一。
3. 哈工大7纳米光刻机的研发和应用对于微电子产业的发展具有重要意义。
它可以实现更小尺寸的芯片制造，提高芯片的集成度和性能，推动了科技的进步和创新。
同时，它也对于国家的科技实力和竞争力有着积极的促进作用。

国产7纳米光刻机什么时候出来

什么时候出来还无法预知。

国产光刻机目前最高级别为28纳米duv光刻机，是上海微电子出产的。而所谓7纳米光刻机实际上是13.5纳米极紫外光光源光刻机，通过技术手段比如多次曝光技术加工制程7纳米及以下制程的芯片，既euv光刻机。两者相差一代，目前我国还无法制造euv光刻机，至于何时出来也无法预知。

武汉宏芯7纳米光刻机是真的吗

是真的，从荷兰进口的。只不过被抵押借了贷款，现在武汉宏芯已经烂尾了

中国光刻机什么时候达到10纳米

中国光刻机目前还无法达到10纳米，目前最高只能到28纳米。

国内唯一能制造光刻机的企业是上海微电子，目前实验机已经达到28纳米精度，如果配合中芯国际的n+1、n+2芯片制造技术，有望能达到制造趋近于7纳米芯片的条件。但该光刻机依然是以193纳米深紫外光为光源的，和荷兰阿斯麦尔的13.5纳米极紫外光光源的euv光刻机还有很大差距。目前还无法得知我国何时能研制出euv极紫外光光源光刻机。